GC Pattern Resin LS 262 ml
Monomervätska för GC Pattern Resin LS, ett lågkrympande och askfritt mönsterresin.
Lägg till en bevakning så meddelar vi dig så snart varan är i lager igen.
GC Pattern Resin LS 262 ml
Monomervätska för GC Pattern Resin LS, ett lågkrympande och askfritt mönsterresin.
Beskrivning
Monomerkomponent för GC Pattern Resin LS med kontrollerad flytbarhet och snabb härdning.
Produktfakta
- Volym: 262 ml
- System: GC Pattern Resin LS
- För pensel- och direktteknik
Fördelar
Minimal polymerisationskrympning, hög styrka och fullständig urbränning stödjer exakta kronor, attachments, barer och implantatmönster.
Bearbetning
Blanda endast systemets polymer och monomer. Bygg upp i små steg och följ GC:s instruktioner för direkt eller indirekt teknik.