GC Pattern Resin LS monomer 105 ml
Monomervæske til GC Pattern Resin LS, en lavtkrympende og restfri mønsterresin.
Føj til overvågning, så giver vi besked så snart varen er på lager igen.
GC Pattern Resin LS monomer 105 ml
Monomervæske til GC Pattern Resin LS, en lavtkrympende og restfri mønsterresin.
Beskrivelse
Monomerkomponent til GC Pattern Resin LS med kontrolleret flydeevne og hurtig hærdning.
Produktfakta
- Volumen: 105 ml
- System: GC Pattern Resin LS
- Til pensel- og direkte teknik
Fordele
Minimal polymerisationskrympning, høj styrke og ren udbrænding understøtter præcise kapper, attachments, barrer og implantatmønstre.
Bearbejdning
Bland kun systemets polymer og monomer. Opbyg i små trin, og følg GC's anvisninger.