GC Pattern Resin LS monomer 105 ml
Monomervæske for GC Pattern Resin LS, et lavkrympende og restfritt mønsterresin.
Legg til overvåking, så gir vi deg beskjed straks varen er på lager igjen.
GC Pattern Resin LS monomer 105 ml
Monomervæske for GC Pattern Resin LS, et lavkrympende og restfritt mønsterresin.
Beskrivelse
Monomerkomponent for GC Pattern Resin LS med kontrollert flyt og rask herding.
Produktfakta
- Volum: 105 ml
- System: GC Pattern Resin LS
- For pensel- og direkteteknikk
Fordeler
Minimal polymerisasjonskrympning, høy styrke og ren utbrenning støtter presise kapper, attachments, barrer og implantatmønstre.
Bearbeiding
Bland kun systemets polymer og monomer. Bygg opp i små trinn og følg GC-anvisningene.